အလူမီနီယံပရိုဖိုင်းများပေါ်တွင်အယ်ကာလိုင်းသန့်ရှင်းရေး၏ function ကို။

June 17, 2024

Alkaline Cleaning Process တွင်အလူမီနီယမ်ထုတ်ယူမှုပရိုဖိုင်းကိုအယ်ယာလာ့ချိန်းချက်ခြင်းပရိုဖိုင်းကိုအဓိကအားဖြင့်ဆိုဒီယမ် hydroxide တွင်အဓိကအားဖြင့်ဆိုဒီယမ် hydroxide တွင်အဓိကအားဖြင့်ဆိုဒီယမ် hydroxide ဖြင့်ဖွဲ့စည်းထားသည်။ ဤကုသမှု၏ရည်ရွယ်ချက်မှာအလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်း၏မျက်နှာပြင်မှဖုန်များကိုထပ်မံဖယ်ရှားရန်ဖြစ်သည်။

၎င်းသည် Anodizing နှင့် Unodic Oxide Film ၏ဖွဲ့စည်းခြင်းတွင်နောက်ဆက်တွဲယူနီဖောင်းကူးယူမှုအတွက်ခိုင်မာသောအုတ်မြစ်ချသည်။ အကယ်. Alkaline သန့်ရှင်းရေးကာလကိုသင့်လျော်စွာတိုးချဲ့ပါကအလူမီနီယံပရိုဖိုင်းပြတင်းပေါက်များနှင့်တံခါးကိုပိုမိုကောင်းမွန်စွာပြုလုပ်နိုင်သည်။ ပိုမိုကြာရှည်စွာသန့်ရှင်းရေးကာလသည်ခိုင်မာသောတောက်ပသောတောက်ပမှုမရှိဘဲတူညီသောပျော့ပျောင်းသောရောင်ပြန်သည့်မျက်နှာပြင်ကိုရရှိနိုင်သည်။

သို့သော်အလွန်အကျွံအယ်လ်လိုင်လမ်သန့်ရှင်းရေးသည်အလူမီနီယမ်ပရိုဖိုင်းများအတွက်ဖြုန်းတီးခြင်းနှင့်ရှုထောင့်သွေဖီမှုများကိုဖြစ်ပေါ်စေနိုင်သည်ကိုသတိပြုရန်လည်းအရေးကြီးသည်။ ထို့အပြင်၎င်းသည်မွေးရာပါပြည်တွင်းရေးဖွဲ့စည်းပုံအခြေခံဥပဒေကိုထုတ်ဖော်ပြောဆိုနိုင်သည်။